-
發(fā)布時(shí)間：2021-02-26磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)
磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備，磁控濺射具有以下兩大優(yōu)點(diǎn)：提高等離子密度，從而提高濺射速度;減少轟擊零件的電子數(shù)目，因而降低了基材因電子的升溫。
-
發(fā)布時(shí)間：2017-06-03磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備
共 1 條記錄 1 頁
產(chǎn)品展示