真空鍍膜設(shè)備鍍鋁工藝的要求

　真空鍍膜機(jī) 真空鍍鋁是在真空狀態(tài)下，將鋁金屬加熱熔融至蒸騰，鋁原子凝結(jié)在高分子材料外表，構(gòu)成極薄的鋁層。真空鍍鋁請求基材外表潤滑、平坦、厚度均勻;挺度和摩擦系數(shù)恰當(dāng);外表張力大于38Dyn/Cm2;熱性能好，經(jīng)得起蒸騰源的熱輻射和冷凝熱的效果;基材含水量低于0.1%。

　　工藝要求：真空度不得低于103PA，避免呈現(xiàn)褐色條紋或鋁層厚度不均表象;操控好體系張力，敞開冷卻體系，避免薄膜受熱呈現(xiàn)拉伸變形;準(zhǔn)確操控卷取速度(280～320m/min)、送鋁速度(0.4～0.7m/min?2mm鋁絲)及蒸騰舟加熱電流，以取得商品請求的鋁層厚度(100～300A°);可預(yù)先在薄膜上涂布必定干量的底膠，并充沛枯燥，再經(jīng)真空鍍鋁，可進(jìn)步鋁層與薄膜的結(jié)合力。然后在鋁膜上涂布必定量的維護(hù)樹脂，避免鋁層氧化蛻變。經(jīng)此技術(shù)構(gòu)成的鍍鋁薄膜，耐摩擦，且不易蛻變。