pvd真空電鍍淺析PVD技術(shù)的發(fā)展與應(yīng)用

　　隨著PVD技術(shù)應(yīng)用的迅速推廣，吸引了國內(nèi)外專家們和相關(guān)企業(yè)積極研發(fā)，至今無論是PVD沉積技術(shù)、PVD的制備工藝，還是PVD設(shè)備配套裝備與部件，都有了長足的進(jìn)步。

　　1. 冷陰極電弧

　　陰極電弧技術(shù)是在真空條件下，通過低電壓和高電流的弧光放電將靶材氣化、離化成等離子體狀態(tài)，從而實現(xiàn)薄膜材料的沉積。最近陰極電弧蒸發(fā)源有新的發(fā)展，主要是通過有效強(qiáng)制冷卻和電磁場獨特的設(shè)計，在兩者共同作用下，使靶材的離化率更高，薄膜性能更加優(yōu)異。

　　2. 磁過濾陰極弧

　　配以高效的電磁過濾系統(tǒng)，將電弧產(chǎn)生的等離子體中的中性宏觀粒子、分子團(tuán)等大顆粒過濾干凈，經(jīng)磁過濾后沉積粒子的離化率， 因此制備的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蝕性能好，與基體的結(jié)合力更強(qiáng)。

　　3. 柱狀或平面狀大面積電弧源

　　保證高離化率的同時，減少大顆粒沉積的比例，達(dá)到既有好的附著力，又有較好的表面光潔度效果。

　　4. 中頻磁控濺射

　　增加離化率，減少電荷積累引起的異常放電，預(yù)防靶表面中毒現(xiàn)象，沉積工藝更穩(wěn)定。

　　5. 全封閉非平衡磁控濺射

　　通過全封閉非平衡電磁場的作用，提高真空室內(nèi)的離化率以及沉積速率，增強(qiáng)膜基結(jié)合力和薄膜沉積的均勻性。

　　6. 脈沖高能窄峰直流濺射

　　提高瞬間的轟擊能量和濺射靶材的離化率(高至50%~60%)，接近電弧的離化率。通過電磁場的作用可以大大增加沉積離子的能量，從而改善膜層的結(jié)合力和致密性。

　　7. 陽極層離子源輔助沉積

　　提高轟擊清洗的質(zhì)量，特別是可以實現(xiàn)對非導(dǎo)體的鍍前清洗，鍍膜時輔助沉積，提高沉積粒子的能量，改善膜層的結(jié)合力。

　　8. 納米復(fù)合多層膜

　　納米沉積技術(shù)，是涂層結(jié)構(gòu)未來的發(fā)展方向，通過納米級厚度的不同成份沉積層復(fù)合結(jié)構(gòu)膜，實現(xiàn)涂層性能的增強(qiáng)。

　　9. 裝飾性雙色間鍍

　　單一的顏色PVD涂層已滿足不了市場的需求，進(jìn)而提出雙色間鍍的要求，這是裝飾涂層的發(fā)展方向，雙色間鍍的質(zhì)量成為代表PVD加工企業(yè)的生產(chǎn)技術(shù)水平標(biāo)志。

　　10. 高能脈沖疊加直流偏壓

　　減少工件的打火，增加沉積離子能量，增強(qiáng)膜基結(jié)合力，提高沉積速率。

　　11. 超低溫捕集泵

　　通過低溫冷凝效應(yīng)，迅速捕集真空系統(tǒng)內(nèi)的殘余氣體，特別是水蒸汽，大大縮短抽真空的時間，獲得潔凈的真空環(huán)境。

　　12. 分子泵及深冷泵

　　綠色環(huán)保，大大降低能耗，真空系統(tǒng)抽速穩(wěn)定，鍍膜工藝穩(wěn)定可靠，重現(xiàn)性好。深冷泵還可以抽排低飽和蒸汽壓等難抽氣體，保證真空系統(tǒng)的潔凈度。